WST-M211
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玻璃晶圆健合设备

WST-M211

JIONTECHNOLOGY开发提供相关Si wafer thin & SiC wafer process”专业设备。
  • 产品介绍

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    本设备用于在晶圆表面旋涂紫外光固化树脂,随后在真空状态下与涂有激光热释放层(LTHC)的支撑玻璃进行贴合,最终通过紫外光照射实现固化粘结。

  • 关键技术

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    玻璃晶圆厚度自适应调控技术,通过实时测量玻璃晶圆厚度,并依据测量结果动态调节树脂涂层厚度,实现总厚度变化(TTV)最小化控制。厚度变异量测控一体化技术

    基于总厚度变化(TTV)的实时监测与闭环控制,确保生产过程中晶圆厚度均匀性,同时有效抑制设备运行误差。晶圆位置补偿对准技术

    通过自动补偿晶圆位置偏移,实现亚微米级对准精度提升。


  • 适用流程

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    WSS(晶圆支撑系统)

  • 系统功能

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    尺寸(主机)
    宽×深×高=1300×1630×2100(单位:毫米)
    重量
    1100公斤
    控制
    板和PC控制,触摸面板
    适用产品
    硅晶片薄化工艺、碳化硅晶片加工
    晶圆尺寸
    150毫米、200毫米
    吞吐量
    超过15WPH(单树脂工艺)
    真空压力
    小于60帕
    盒式磁带机
    第一站:晶圆装载
    第二站:玻璃装载
    第三站:安装晶圆卸载

详细视图